通过核磁氢谱和碳谱分析溶剂中痕量杂质成分

通过简单的氢谱和碳谱进行合成过程或者化工行业内的产物、中间体的痕量溶剂杂质分析，需要构建大量的常见溶剂的化学位移数据。

2023年 Levente Cseri 等在文章《NMR Chemical Shifts of Emerging Green Solvents, Acids, and Bases for Facile Trace Impurity Analysis》更新数据，报告了 8 中氘代溶剂（DMSO，CDCl3，D2O，CD3OD, CD3CN, 丙酮-d6，四氢呋喃-d8 和 甲苯-d8 ）的数据。并且提供一个可查询的网站 (http://www.nmrimpurities.com)，用户可以通过该界面浏览溶剂光谱并搜索来源不明的信号，从而轻松识别 NMR 光谱中的残留杂质。

1997年 Gottlieb 等的文章 《NMR Chemical Shifts of Common Laboratory Solvents as Trace Impurities》，其中列出 CDCl3、 丙酮-d6、DMSO-d6、苯-d6、CD3CN、CD3OD 和 D2O 溶剂中杂质的化学位移。

2010年 Gregory R. Fulmer 等的文章《NMR Chemical Shifts of Trace Impurities: Common Laboratory Solvents, Organics, and Gases in Deuterated Solvents Relevant to the Organometallic Chemist》基于 Gottlieb 等的工作，添加其他 NMR 溶剂（四氢呋喃-d₈ 、甲苯-d₈ 、氯苯-d₅ 和 2,2,2-三氟乙醇-d₃ ），常用于有机金属实验室。文章中还列出了在有机金属化学中常用作内标的化合物在这些溶剂中的化学位移。

2016年 Nicholas R. Babij 等的文章《NMR Chemical Shifts of Trace Impurities: Industrially Preferred Solvents Used in Process and Green Chemistry》列出了 48 中工业上常用的溶剂在氘代溶剂（CDCl3 、丙酮-d6 、乙腈-d3 、甲醇-d4 和 D2O）的化学位移，扩充了 Gotlieb 等文章的内容。